Inline Sputter

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  • Inline Sputter

▷ 完全自动化系统构筑, 为稳定的品质提供高可动性与最大生产力多样的技术以及扩张性。
▷ 提供高可动性与最大生产力。

Application
- 适用于多样的薄膜 (Metal, Oxide, TCO 等) 流程
- 适用于多样的制品 (Plastic, Glass 等)
- 适用于多样的形象 (Deco, Tool, Special Model 等)
Specification
构成 Loading, Pre-treatment, Deposition, Buffer, Unloading
Tact time 3分钟以内
Cathode Planar or Cylindrical Magnetron cathode
Target Metal, Oxide, TCO