Cluster Sputter
▷ 适用于自动化生产线,开发以及研究现场。
▷ 提供高集成化的技术和机制。
Application
- 适用于多样的薄膜 (Metal, Oxide, TCO 等) 流程
- 适用于高集成半导体以及电子配件基板流程
- 适用于薄膜太阳电磁流程
- 适用于高集成半导体以及电子配件基板流程
- 适用于薄膜太阳电磁流程
Specification
构成 | Loading, Transfer, Pre-treatment, Deposition(PVD, CVD) |
制品转移 | 高真空自动 |
Cathode | Planar or Round Magnetron cathode |
Target | Metal, Oxide, TCO |