Inline Sputter
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제품소개 Sputtering system Inline Sputter
▷ 완전 자동화 시스템 구축, 안정된 품질 확보를 위한 다양한 기술 제공
▷ 높은 가동률, 생산성 극대화, 다양한 확장성
Application
- 다양한 박막(Metal, Oxide, TCO)공정에 적용
- 다양한 제품(Plastic, Glass 등)에 적용
- 다양한 형상(Deco, Tool, Special model)에 적용
- 다양한 제품(Plastic, Glass 등)에 적용
- 다양한 형상(Deco, Tool, Special model)에 적용
Specification
| 구성 | Loading, Pre-treatment, Deposition, Buffer, Unloading |
| Tact time | 3 Min 이내 |
| Cathode | Planar or Cylindrical Magnetron cathode |
| Target | Metal, Oxide, TCO |